有機ポリシランの光物性とその応用
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概要
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有機ボリシランに大気雰囲気下で紫外光を照射すると、Si-Si結合が光分解によってSi-0-Si結合などへ変化する。この物性変化を利用した高密度光メモリやCD記録原盤用レジスト材への応用について調べた結果、記録径が0.4μmの追記型高密度光メモリが可能であることがわかった。また記録原盤作製プロセスに反応性イオンエッチングを用いたドライプロセスが使用できることが判明し、現在行われている湿式法によるプロセスでの廃液処理問題を解決できる見通しを得た。さらに紫外光照射されたポリシランからの発光(中心波長: 530nm)が観測されたが、その際のポリシランの組成としては(Si-O)+(SiOx)が50%以上を占めていた。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1995-09-25
著者
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川崎 真一
大阪ガス(株)
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藤木 剛
大阪ガス(株)
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川田 浩二
(株)関西新技術研究所
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山田 良行
ネオアーク株式会社八王子工場
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山田 良行
(株)関西新技術研究所
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西田 亮一
大阪ガス(株)
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西田 亮一
大阪ガス
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