エキシマレーザーアブレーション法よって作製した再結晶化ハイドロキシアパタイト薄膜の生体活性
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概要
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エキシマレーザーアブレーション法は,作製膜の組成制御性や薄膜化に優れたコーティング方法である.本稿では,エキシマレーザーアブレーション法とポストアニール法を用い,金属インプラントであるチタン合金上に生体活性セラミックスである結晶化ハイドロキシアパタイト(HAp:Ca_<10>(PO_4)_6(OH)_2)薄膜の作製を試みたので報告する.まず,エキシマレーザーアブレーション法により,室温にてチタン合金上にアモルファスHAp薄膜を作製した.その後,水蒸気雰囲気の電気炉内で550℃および570℃のアニール処理を行い,アモルファスHAp膜を結晶化させた.アニール前後のHAp膜の結晶性はXRD,表面形態はSEMとAFMにて評価した.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2002-03-12
著者
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西坂 剛
北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科
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西坂 剛
北陸先端科学技術大学院大学 材料科学研究科
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西坂 剛
北陸先端科学技術大学院大学
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西坂 剛
松本歯科大学総合歯科医学研究所
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梶井 竜彦
北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科
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