多値モルフォロジによる等方的および非等方的なパターンサイズの計測(一般セッション(3) : 福祉・医療のためのパターン認識・メディア理解)
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概要
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本稿では,多値モルフォロジの局所パターンスペクトルに基づいたパターン(陰影)のサイズ計測法について,球の構成要素を用いた等方的な計測法に加え,多方向の線分の構成要素に基づいて拡張された非等方的な計測法を提案する.本手法では,局所パターンスペクトルが各画素について取得され,計測されるサイズは各画素に対して与えられる特微量となる.非等方的な計測法では,各方向のサイズ分布を対称行列の2次形式を用いて近似することにより,ヘッセ行列を用いた方法と同様に,行列の固有値を用いて線状,面状,塊状の類型の識別や主方向の決定が可能であることを示す.合成画像,および3次元医用画像を用いた実験により,計測する方向数など,計測のパラメータに対する,サイズの計測誤差の変化やパターンの主方向の推定に関する誤差などの特性を示す.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2004-05-21
著者
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