1999 Display Manufacturing Technology Conference会議報告 : 薄膜技術、フォトリソグラフィ、環境配慮製造技術

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概要

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• 1999年Display Manufacturing Technology Conference国際会議の講演の中から薄膜材料・成膜技術、フォトリソグラフィ、レジストコート、環境影響を考慮した製造技術につきまとめて報告する。講演はa-Si, p-SiTFT-LCD、PDP、太陽電池、実装に関するスパッタ、CVD、レーザアニール、エッチング、レジストコート、露光に関する技術と環境影響評価、新規半導体ガス容器に関する。件数は薄膜技術が6件、レジスト技術が4件、環境関連技術が3件である。

• 一般社団法人電子情報通信学会の論文
• 1999-03-12

著者

• 池田 光志

  東芝 材料・デバイス研究所

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