MgO保護膜評価装置の開発
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概要
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現在、膜からの2次電子放出収量(γ値)を測定するための装置を開発中である。このMgO保護膜評価装置はイオン源から数10keVのエネルギーにおいて引き出し、質量分離したビームを50〜1000eVに減速して被測定試料基板に照射し、放出される2次電子を計測する。S/N比向上のため、試料以外で発生する電子を抑制し、系内を10^<-7>Pa以下の圧力に保つ。本機の開発に先立ち、既存の低エネルギーイオン照射装置を用い、XeイオンによるWおよびMgO膜のγ値を測定した。MgO膜はステンレス基板上に蒸着した配向性の異なる2種類の試料について測定を行った。Wのγ値は100〜1000eVのエネルギー範囲においてほぼ一定で、0.02を得た。MgO膜のγ値はエネルギー依存性を示し、また、配向性による変化が認められた。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1999-01-21
著者
-
阿川 義昭
日本真空技術(株)
-
山本 佳宏
日本真空技術株式会社
-
天野 繁
日本真空技術株式会社
-
天野 繁
日本真空技術(株)超高(事)
-
佐々木 徳康
日本真空技術株式会社
-
湯山 純平
日本真空技術株式会社
-
湯山 純平
日本真空技術株式会社技術開発部
-
湯山 純平
日本真空技術(株)
-
阿川 義昭
日本真空技術株式会社
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