WDM伝送用階段型DSFの開発
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概要
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光伝送の高速大容量化が進む中, 波長分割多重(WDM)伝送技術が本命技術として注目されている。しかしながら, その代償として, ハイパワー入力による波形の歪みやFWM(4光波混合)の発生等の非線形現象が新たな問題として生じている。これらの効果的な解決手段としては, 前者は, n_2(非線形屈折率)の減少やMFD(モードフィールド径)又はA_<eff>(実行コア断面積)の拡大, 後者は, 微小分散によるFWMの抑制等が考えられる。特に現在, n_2を小さく抑える検討と共に, DSFの大MFD化(大A_<eff>化)が, 非常に注目されている。例えば, セグメント型等のDSFにおいては, MFDが10μm以上を達成したという報告もなされている。それに対し, プロファイルが単純でVAD法で製造容易な階段型のDSF (図1)では, 従来, 曲げによる損失増のため, 9.4μm程度が限界とされている。我々は, VAD法による階段型のDSFでMFDをさらに拡大するためのプロファイル検討を行い, MFDが10μm以上を達成したので報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1997-03-06
著者
-
武笠 和則
古河電気工業(株)ファイテルフォトニクス研究所
-
武笠 和則
古河電気工業株式会社
-
赤坂 洋一
古河電気工業株式会社
-
鈴木 好久
古河電気工業株式会社
-
赤坂 洋一
古河電気工業株式会社 研究開発本部 光技術研究所 Wpプロジェクトチーム 光伝送グループ
-
武笠 和則
古河電気工業
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