高周波回折理論による2次元光学像の計算
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概要
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半導体集積回路の性能の向上にはめざましいものがあるが、その高集積化を支えているのが基板上に回路のパターンを形成するリソグラフィー技術である。現在パターンサイズが光源の波長と同程度になり、それより微細なパターンを作るためには結像の歪みが問題となってくる。そこで本研究では、マスクエッジからの回折光線に、電磁波の高周波回折理論を用いてフォトリソグラフィーの結像特性の評価を試みた。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1996-03-11
著者
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