不均質誘電体グレーティングによる電磁波の散乱
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概要
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近年、混合媒質を持つ誘電体グレーティングの散乱解析が盛となっているが、グレーティング内の誘電率は主にステップ分布が解析されている。著者らは、レリーフ型で、しかもレリーフ内の誘電率が表面形状の周期と同一の周期で空間的に変化している、不均質レリーフ型グレーティングの散乱問題を、Fourier級数展開法と多層分割法を併用して解析し、その散乱特性を均質レリーフ型グレーティングと比較して、不均質媒質が散乱特性に及ぼす影響を検討した。本文では、レリーフ内の誘電率が表面凸部から凹部へ空間的に変化した、不均質誘電体グレーティングの散乱問題を解析し、TE波(図1の座標系で電界がy成分のみ)およびTM波(磁界がy成分のみ)について、入射角特性を比較検討した。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1996-03-11
著者
-
山崎 恒樹
日本大学理工学部
-
日向 隆
日本大学理工学部
-
田中 宏卓
日本大学工学部
-
田中 宏卓
沖電気工業株式会社
-
細野 敏夫
日本大学理工学部電気工学科
-
田中 宏卓
日本大学理工学部
-
細野 敏夫
日本大学
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