CADデータとの比較によるパターン検査アルゴリズム

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概要

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• 半導体、基板の製造工程では、パターン上の形状欠陥を検査して、製品の品質を保証する必要がある。この報告は、パターン上の欠陥を画素サイズの分解能以下で検出する検査アルゴリズムに関するもので、方式とパターン欠陥検査装置に適用した結果を報告する。

• 1995-03-27

著者

• 井上 広

  (株)東芝生産技術研究所

• 奥田 健太郎

  (株)東芝生産技術研究所

• 小野 明

  東芝 生産技セ

• 野村 武彦

  (株)東芝生産技術研究所

• 小野 明

  (株)東芝 生産技術センター

• 小野 明

  (株)東芝

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