半導体デバイスの新しいシミュレーション技術〔II〕 : 微細CMOSのシミュレーション技術(2) : CMOSデバイスの非平衡キャリヤ輸送シミュレーション

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 社団法人電子情報通信学会の論文
• 1999-03-25

著者

• 熊代 成孝

  日本電気株式会社ULSIデバイス開発研究所

• 熊代 成孝

  日本電気株式会社necエレクトロンデバイス

• 飯塚 貴弘

  日本電気株式会社シリコンシステム研究所

関連論文

• 半導体デバイスの新しいシミュレーション技術〔I〕 : 微細CMOSのシミュレーション技術(1) : CMOSデバイスシミュレーションの高精度化
• CMOSのプロセス及びデバイスのシミュレーション技術(2.半導体デバイスに関するシミュレーション技術)(電子情報通信を支えるシミュレーション技術)
• 半導体デバイスの新しいシミュレーション技術〔II〕 : 微細CMOSのシミュレーション技術(2) : CMOSデバイスの非平衡キャリヤ輸送シミュレーション

スポンサーリンク