Sputter Texturing Method for Alternative Substrates

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概要

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50%MRヘッド用として、MR素子をセンターレールの後部に配置したTri-rail形状で、ディスク全域で一定浮上を実現するスライダを開発した。HGAしたへッドによって、3.5"、5400r.p.m.ディスク全域での一定浮上特性を確認した。このスライダは、センターレール周囲にのみ深さ1.8μmの微小段差を有し、微小段差部はイオンミリングプロセスにより形成する。ブリードスロット部は機械加工により十分深く形成し(>20μm)、高転送レート、高周速条件でのブリードスロット部による空気圧縮効果を除いている。また、微小段差部の幅をできる限り広げることで、加工ばらつきの影響を低減している。さらに、MR素子をセンターレール後方に配置したことで、HGA時の取り付け位置ずれによるギャップ浮上量の変動を最小限にできた。
社団法人電子情報通信学会の論文
1994-11-19

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