自己周波数シフトとパルス整形技術による3レベル光アナログ-ディジタル変換(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
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概要
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フォトニックネットワークヘの応用を目指した高速信号処理において,アナログ-ディジタル(A/D)変換における標本化・量子化・符号化の操作を光領域で一括処理する必要性があると考えられる.現在,光標本化については,様々な技術が提案されているが,光量子化・光符号化については報告例が少ない.我々はこれまでに,ファイバ内の自己周波数シフトとパルス整形技術を利用することで,光量子化・光符号化を同時に行う超高速光A/D変換を提案してきた.本稿では,提案する超高速A/D変換システムを用いて,平均パワー9.8mW,10.1m,10.3mWの3レベルのアナログ信号強度に対し,それぞれ1.25ps間隔の異なるディジタル信号[100010001],[101010101],[111111111]が得られることを実験的に確認したので報告する.
- 2004-01-22
著者
-
伊東 一良
大阪大学大学院工学研究科
-
小西 毅
大阪大学大学院工学研究科
-
西谷 隆志
大阪大学大学院工学研究科
-
伊東 一良
大阪大学工学部
-
小西 毅
大阪大 大学院工学研究科
-
伊東 一良
大阪大学大学院
-
小西 毅
大阪大学大学院
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