多層導体薄膜における透過波のFDTD法によるシミュレーション
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概要
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加工汎用性の高さ等の理由により, シールド材として誘電体上に薄膜めっき処理を施した多層構造の導体薄膜が用いられる.このような多層導体薄膜によるシールドの効果をFDTD法にてシミュレーションする際に, 直接モデル化する場合には導体厚以下のセルサイズを用いる必要がある.しかし, 一般的にはシールド材は金属薄膜の厚みに比べ非常に大きいため, これらのモデル化に要するセル数が膨大になり, 現実的には計算困難となる.本論文ではFDTD法におけるサブセル法として, 多層構造の導体薄膜と等しい透過係数を有する無限に薄い抵抗膜を導入する.この手法を用いることで必要以上にセル数を増加させることなくモデル化することが可能となる.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2000-05-25
著者
-
千葉 勇
三菱電機株式会社
-
大嶺 裕幸
三菱電機株式会社
-
深沢 徹
三菱電機株式会社情報技術総合研究所
-
砂原 米彦
三菱電機株式会社
-
深沢 徹
三菱電機株式会社
-
砂原 米彦
三菱電機株式会社 情報技術総合研究所
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