電子スピン共鳴法(ESR)によるリベース用常温重合レジンの研究 : 活性剤および抑制剤の重合反応に及ぼす影響

概要

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義歯床と粘膜面の不適合を是正するため, 常温重合レジンで裏装する直接リベース法が広く用いられている.これにはMMA系レジンが使用されており, リキッドとパウダーを練和した時からラジカル重合で反応が進む.しかしながら, 活性剤や抑制剤によりこの重合度は大きく変化する.本研究では, 電子スピン共鳴法(ESR)を用いリベース用常温重合レジンの生長ラジカルを直接検討した.その結果, 以下の結論を得た.(1)37℃の生体温度において, 練和後5.5分でラジカルが最初に検出され, その直後から27分まで急激にラジカル濃度が増大した.その後, ラジカル濃度の減衰が認められたが3, 656分以上安定的に残留した.(2)重合温度が高いほど, 重合反応が促進されラジカルの残留時間が短縮した.また, 最大ラジカル濃度は減少した.(3)活性剤(N, N-Dimethyl-p-toluidine)の増量は, 誘導期および生長期での重合反応を促進させたが, 同時に最大ラジカル濃度も増大させた.(4)抑制剤(Hydroquinone)の増量は, 最大ラジカル濃度には影響を与えなかったが, 誘導期, 生長期のみならず停止期まで重合反応を遅延させた.
日本歯科理工学会の論文
1987-07-25