4a-C-2 窒素アフターグロー中における酸素の影響 II
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 1973-04-03
著者
関連論文
- 4p-C4-12 反応性ガスプラズマのプラズマパラメータ変動の測定
- 6a-KT-4 電子エネルギー分布関数測定器の試作
- 23p-C-12 N_2混合ガスプラズマの諸特性 II
- 6a-C-10 N_2混合ガスプラズマの諸特性
- ドルベスタイン法による空間電位の誤差
- 2a-A-10 活性粒子束の測定 II
- 28p-YD-2 Ar放電中の活性粒子束の測定
- 14a-DG-5 プローブによるエネルギー分布関数測定の歪 II
- 30p-ZH-6 プローブによるエネルギー分布関数測定の歪(放電)
- 25p-E-5 プローブによるイオン流束の計測 II
- 28p-ZE-8 プローブによるイオン流束の計測
- 27a-ZH-6 RFプラズマの周波数依存性
- 27a-ZH-2 空間電位変動のあるダブルプローブ特性歪の実験的研究
- 3p-TC-3 デジタルトリプルプロプによる電子温度の観測
- 2a-Q-4 変動のあるプラズマのダブルプローブ特性 III
- 4p-P-8 変動のあるプラズマのダブルプローブ特性
- 30a-QE-10 遷移領域のダブルプローブ特性
- 直流放電を用いたプラズマCVD (プラズマCVD(技術ノ-ト))
- 4a-H-8 中間気圧プラズマの複探針特性
- 3p-H-5 Ar-CH_4混合ガス放電陽光柱の数値モデル
- 3p-H-4 Ar-NH_3混合ガス放電陽光柱の数値モデル
- 4p-I-8 Ar-SiH_4混合ガス陽光柱放電の数値モデル
- 4p-I-8 Ar-SiH_4混合ガス陽光柱放電の数値モデル
- 2p-SE-8 プラズマの絶縁耐力
- 2p-SE-8 プラズマの絶縁耐力
- 10a-U-7 同軸円筒型拡散プラズマの密度分布
- 23p-C-2 近接物体の探針特性におよぼす影響について
- 24a-E-8 窒素アフタグローの二次的加熱現象
- 4a-C-2 窒素アフターグロー中における酸素の影響 II
- 4a-C-1 窒素アフタグローの分光測定
- 12a-Y-7 窒素アフターグロードに於ける酸素の影響
- 6p-X-9 質量分析計による窒素アフタグロープラズマの分析
- 6p-X-8 窒素アフタグロー中の電子エネルギー分布 II
- 3p-R-1 プラズマ導電率の静電探針特性への影響
- 19p-G-6 質量分析計による窒素アフターグロープラズマの分析
- 19a-G-10 平板型探針の遮蔽効果
- 7a-K-7 窒素アフタグロー中の電子エネルギー分布
- 7a-K-6 metastable gun
- 9p-E-6 窒素アフターグロー中における電子の役割
- 9p-N-6 静電探針におけるイオン電流の異常増加
- 4p-GE-7 三探針測定におけるイオン電流の影響
- 4p-GE-6 低密度磁化プラズマの探針測定
- 15p-E-11 N_2アフタグローにおける電子の振舞
- 11a-N-2 サンプリング・プローブ法による電子及びイオン電流の分離
- シリコントレンチエッチングにおけるシースの役割
- SbSIの強誘電的相転移
- 10a-U-6 連続媒質プラズマ中における円筒プローブの実験
- 6a-H-2 連続媒質中の回転楕円体プローブ理論
- 4p-G-11 軌道運動領域における三探針理論の検討
- 10p-Q-6 連続媒質のラプラス・リミットに於けるプローブ特性
- 浮動プローブの負荷効果
- 4.静電プローブでプラズマを探る : 4.3複探針により電子の密度と温度を測る(プラズマ実験入門IV)
- プラズマパラメ-タ-の計測 (半導体プロセス用プラズマ診断法(技術ノ-ト))
- 11a-N-1 探針を用いた非線形素子
- 窒素アフタグローの測定 : 応数力学・応用力学(固体)
- 浮動電位附近における探針の電子電流 : 応数力学・応用力学(固体)
- 高ガス圧における三探針測定 : プラズマ物理
- 三探直視法の周波数上限 : プラズマ物理
- 三深針直視法における"抵抗変化"による誤差 : プラズマ物理
- ノモグラムを用いた三探針測定における飽和イオン電流の補正
- "完全浮動"でないばあいの三探針直視法