黒鉛炉原子吸光法によるシリコンウェハー金属薄膜中のナトリウムの高感度定量

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る

• シリコンウェハー上金属薄膜中に微量に混入するNaを,簡便かつ高感度に分析する方法を報告する。希薄なHFをベースとした混合液でLSIの配線材料となるAlSiCu膜,Ti膜,WSi3膜を溶解,回収し,液中のNaを黒鉛炉原子吸光法で分析した。希フッ化水素酸をベースとする混合液を溶解液に用いることによって膜を溶解後,ウェハー表面を疎水化し,容易に液滴を回収できるようにした。Naの検出限界は各々の膜に対して(3〜4)×1015atoms cm-3であり,回収率はNa,及び膜材料のAl,Ti,Wに対して99%以上であった。

• 2000-08-05

著者

• 籔本 周邦

  NTTアドバンステクノロジ

• 籔本 周邦

  Nttアドバンステクノロジ(株)

• 櫛部 園美

  NTTアドバンステクノロジ(株)材料開発&分析事業部厚木分析センタ

• 櫛部 園美

  Nttアドバンステクノロジ(株)

• 櫛部 園美

  Nttアドバンステクノロジ(株)材料開発&分析事業部厚木分析センタ

関連論文

• 3L07 サブμm径SPMの分析TEMによる評価
• 第24回空気清浄とコンタミネーションコントロール研究大会報告
• 黒鉛炉原子吸光法によるシリコンウェハー金属薄膜中のナトリウムの高感度定量
• シリコンウェハ表面の極微量分析

スポンサーリンク