加圧酸蒸気分解誘導結合プラズマ発光分析法及び質量分析法によるシリコン材料中微量不純物の分析
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概要
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電子材料用高純度シリコン, シリカ材料中微量不純物分析法を検討し, 以下の結果を得た.(1)試料調製には操作が簡便で分解時の環境・試薬からの汚染が少なく, 少量溶液の調製が可能な加圧酸蒸気分解法の適用を検討し, 硫酸10μlの添加により目的元素の揮散が抑制できた.(2)希釈による測定時の感度低下を避けるために少量溶液の高感度導入法である金属フィラメント抵抗加熱気化法をICP発光分析法に適用し, フィラメントを腐食して測定を妨害する硫酸イオンをイオン交換法によって除去することにより, 各元素とも数ppbから数10ppbレベルの定量が可能になった.又インジェクション-ICP質量分析法での定量も合わせて検討し, 両法を相補的に用いることにより, 石英るつぼ, シリコン材料など実際試料中のsub-ppbレベル(CO, V)からppbレベル(Mg, Al, Ti, Cr, Mn, Ni, Cu, Zn)までの微量不純物が分析できた.分析精度は, 7.3ppbのAlの場合, SDで0.9PPbであった.
- 社団法人日本分析化学会の論文
- 1993-10-05
著者
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