投影エッジ相関法(1)LSIマスク図とSEM像のアライメント
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概要
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LSI配線の複雑化・微細化にともない,電子ビームテスタ(EBテスタ)を用いた自動プロービングシステムによるLSI内部診断の効率化が期待されている。自動プロービングの実現には,LSIのマスク図データと走査型電子顕微鏡(SEM)像の自動アライメントが不可欠であり,具体的には倍率誤差,シフト誤差,線幅誤差の検出と補正を行う必要がある。この線幅誤差は,LSI配線の線幅がマスク露光等のプロセス条件に依存するために発生するもので,最小線幅の20%程度の大きさである。そこで,ベクトルデータとして記述されているマスク図データから上下左右の属性付きで配線エッジを抽出できる事をを利用し,左右(上下)のエッジで独立にマスク図のエッジとSEM像の相関度を評価する事により線幅補正を可能にし,エッジの近傍のSEM像を投影データに圧縮する事により処理の高速化を図った投影エッジ相関法を開発した。
- 一般社団法人情報処理学会の論文
- 1992-09-28