Co合金スパッタリングターゲットの金属組織が磁気ディスクに与える影響
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概要
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The influences of Co-Cr-Pt-Ta sputtering-target microstructure on C/Co-Cr-Pt-Ta/Cr/glass films were investigated. The sputtering target consisted of a Co solid solution matrix and Ta- and Pt-rich precipitates. Annealing and rolling can increase the Pt and Ta content of the matrix. When the film is made by using an annealed and rolled target, its H_c and S^* become large and the H_c distribution becomes small. These changes are related to the film composition. Simple calculations related to the ejection angular distribution of sputtered particles and yields suggest that about compositional changes in films are brought by the differences in the target microstructures.
- 社団法人日本磁気学会の論文
- 2001-12-01
著者
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加藤 和照
三井金属鉱業株式会社総合研究所
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渡辺 弘
三井金属鉱業(株)総合研究所
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加藤 和照
三井金属鉱業(株)総合研究所
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Ucok Ibrahim
三井金属鉱業(株)総合研究所
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林 富雄
三井金属鉱業(株)総合研究所
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