ゾルーゲル法により作製したハフニア薄膜の紫外線照射による硬化(<特集>イノベーティブセラミックス(I))
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概要
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Sol-gel-derived hafnia films containing formic acid as an organic ligand were hardened by ultraviolet (UV) irradiation. Transparent hafnia sols were prepared by treating hafnium hydroxide with a formic acid aqueous solution. The gel films were hardened to scratch hardness of over 9H by UV irradiation using a high-pressure mercury lamp for 2.5-10 min. A formato ligand was found to be bridged to Hf ions in a bond involving two metal ions by analyzing the FTIR spectra of the hafnia powders before and after UV irradiation. The hardening process of the hafnia gel films was investigated using the thermal programmed desorption (TPD) technique. The amount of CO and CO_2 generated from the formato ligands decreased after UV irradiation, as did the amount of H_2O generated from Hf-OH in the gel, indicating that the formato ligands and OH in the gel were eliminated by UV irradiation, resulting in pencil hardness of over 9H.
- 社団法人日本セラミックス協会の論文
- 2005-01-01
著者
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