昇温脱離質量分析法におけるH_2Oのパターン係数の決定
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
Pattern coefficients (PC) of H2O using temperature programmed desorption mass spectrometry (TPDMS) were determined by using TPD curves of m/z 1, 16, 17, and 18 generated from H2O adsorbed on silica gels. TPD curves of m/z 1, 16, 17, and 18, which corresponded to H2O and its fragments were obtained by a quadrupole mass spectrometer (QMS) equipped with the TPDMS apparatus. The H2O pattern coefficients for m/z 1, 16, 17, and 18 were determined to be 16.8, 2.12, 26.4, and 100, respectively. The values were different from those supplied by QMS company especially for m/z 1. Our PC data determined for the TPDMS reasonably explain the TPD curves for CaC2O4·H2O.
- 日本質量分析学会の論文
- 2004-02-01
著者
-
宮林 延良
電子科学株式会社
-
西出 利一
日本大学工学部工業化学科
-
宮林 延良
電子科学(株)
-
常盤 聡子
日本大学工学部次世代工学技術研究センター
-
橋詰 昭夫
電子科学(株)
-
西出 利一
日本大学工学部
関連論文
- レーザー生成プラズマ極端紫外光源を用いた光脱離質量分析装置の開発
- 真空紫外光による光励起表面脱離プロセスと表面分析への応用
- TG-MSによるセラミック薄膜および粉体の形成過程の解明
- ゾル・ゲル法による酸化タングステン薄膜のフォトクロミズムII
- 昇温脱離分析用粉体試料の調整方法の開発およびCaC2O4・H2Oの熱分解プロセスの解析
- 昇温脱離質量分析法におけるH_2Oのパターン係数の決定
- 2H19 ゾルゲル法によるチタニア薄膜の昇温脱離法による焼成プロセスの解析
- 2B04 ゾルゲル法によるチタニアゲル膜の昇温脱離法を用いた焼成プロセスの解析
- ゾルーゲル法により作製したハフニア薄膜の紫外線照射による硬化(イノベーティブセラミックス(I))
- 水系におけるアナターゼ型二酸化チタン薄膜の作製と光触媒実験教材への応用
- 昇温脱離法を用いた無機-有機複合膜の解析
- 極端紫外光源を用いた光脱離質量分析装置の開発
- 水系におけるアナターゼ型二酸化チタン薄膜の作製と光触媒実験教材への応用
- Mo-Siミラーの光洗浄と光脱離分析評価
- レーザー生成プラズマ極端紫外光源の開発と表面分析への応用