化学ポテンシャル図を用いたTiAl/Al_2O_3及びTiAl/TiO_2の界面反応の解析
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概要
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Interface reactions for the diffusion couples of TiAl/Al_2O_3 and TiAl/TiO_2 were investigated and the reaction paths were analyzed by the use of chemical potential diagram. No essential reaction was observed at 1273 K for the diffusion couple of TiAl/Al_2O_3, but Ti_3Al(O)was formed between TiAl(O)and Al_2O_3 phases at 1373 K. In the case of TiAl/TiO_2, Ti_3Al(O)and Al_2O_3 were formed between TiAl(O)and TiO_2 phases. These reaction paths were reasonably elucidated by the use of chemical potential diagram of the Ti-Al-O system, which was constructed using the data of Gibbs energy of formation for the compounds composed of Ti, Al and O. The reaction paths for the diffusion couple of Ti/Al_2O_3 and oxidation of TiAl obtained from the literature data were also reasonably elucidated by the use of the same chemical potential diagram.
- 社団法人日本セラミックス協会の論文
- 1997-09-01
著者
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村田 純教
名古屋大学工学部材料機能工学科
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村田 純教
名古屋大学
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稲葉 秀明
川崎製鉄(株)技術研究所
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稲場 秀明
川崎製鉄(株)技術研究所
-
稲葉 秀明
川崎製鉄(株)技術研究所:(現)千葉大学教育学部理科教室
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