低温気相生長酸化膜の性質 (II) : 半導体 (表面)

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 1969-03-30

著者

• 中野 元雄

  富士通IC事業部

• 岡部 太郎

  富士通ic技術部

• 中野 元雄

  富士通ic技術部

• 佐藤 淳二

  富士通IC技術部

• 前田 和夫

  富士通IC技術部

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