マイクロプローブをうる電子工学系の球面収差係数依存特性 : 荷電ビームと応用
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人日本物理学会の論文
- 1969-03-30
著者
関連論文
- 遠焦点電子ビーム集束を用いた微小焦点X線装置とその応用
- 多目的イオンビーム装置 : 荷電ビームと応用
- マイクロプローブをうる電子工学系の球面収差係数依存特性 : 荷電ビームと応用
- Quadrupoleを用いたCuring用電子ビーム照射系 : 荷電ビームと応用
- 有機物の重合による電子線像の記録 : 荷電ビームと応用
- 電子ビームによる飛点走査型自動倣い加工 : 荷電ビームと応用
- フォトレジストの電子ビーム照射 : 電子ビームとその応用シンポジウム
- 150kV電子ビーム加工機 : 電子ビームとその応用シンポジウム
- イオンビーム加工に関する諸問題
- 電子ビーム溶解炉におけるビーム偏向に関する考察 : 電子ビームシンポジウム
- 静電気単一レンズの収差とレンズ特性 : 電子ビームシンポジウム
- イオンカラー顕微鏡用観察板 : 電子ビームシンポジウム
- 円筒と単孔よりなるイマージョンレンズの特性 : 電子ビームシンポジウム
- 複数個の制御電極をもった複合電子銃 : 粒子線・X線
- イオンビームによるカラーレコーディング・エッチングおよび加工 : 電子ビーム加工シンポジウム
- 電子ビーム加工
- ビーム装置用特殊結線方式高圧電源
- 遠焦点電子ビーム集束を用いた微小焦点X線装置とその応用
- リングガン方式の浮遊帯域溶解装置とその応用
- 電子ビームによる紡糸ノズルの製作
- 電子ビーム技術最近の進歩 (I)
- 最近の電子顕微鏡