真空蒸着法に依るSiのエピタキシャル成長膜 : 表面物理, 薄膜

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 1966-03-31

著者

• 井出 恭三

  早稲田大学理工学部

• 長谷川 新一

  早大理工学部

• 伊藤 糾

  早稲田大学理工学部

• 長谷川 新一

  早稲田大学理工学部

• 長谷川 新一

  早稲田大学

• 井出 恭三

  早稲田大学

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