シリコン酸化膜におよぼす水の影響 : 半導体(表面)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人日本物理学会の論文
- 1966-03-31
著者
関連論文
- GaAs単結晶の不純物濃度分布 : 結晶成長
- MNOS構造の特性 : 半導体 (表面)
- Close-Spaced TechniqueによるGaPの気相成長 : 結晶成長
- ゲルマニウムデンドライト中の不純物分布 : 半導体
- 12a-K-2 薄膜によるシリコン基板の歪の検出
- 3p-G-10 シリコン薄膜の熱酸化
- 3p-L-10 水素雰囲気によるSi結晶中の欠陥
- Si-webの成長と欠陥 : 結晶成長
- シリコン酸化膜におよぼす水の影響 : 半導体(表面)