2p-PSA-50 原子状水素によるGaAs表面酸化膜の除去機構

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 1994-08-16

著者

• 山田 正理

  光技術研究開発(株)つくば研究所

• 山田 正理

  光技研 つくば研

• 井手 雄一

  光技研 つくば研

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