2F108 フォトリソグラフィによって形成されたマイクログループによるネマチック液晶の配向
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概要
著者
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坂本 正典
東芝総合研究所
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長谷川 誠
東工大資源研
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川田 靖
東芝総合研究所
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高頭 孝毅
東芝総合研究所
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岐津 裕子
東芝総合研究所
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長谷川 誠
東芝電子技術研究所
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岐津 裕子
東芝材料・デバイス研究所
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