プラズマエッチングとその表面反応(<特集>最新のプラズマプロセス技術)
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概要
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以上, プラズマエッチングの新技術の考え方とその表面反応モデル, エッチング特性を述べた.とくに, 低温エッチングや滞在時間制御エッチングについて, これからの技術課題の解決に対する極めて高いポテソシャルとディープサブミクロンレベル以降の超微細加工法としての考え方を紹介した.ここで付記したいのは, 半導体デバイスの高集積化・インテリジェント化には, 本特集を越えた新技術, 新概念のエッチング技術が必要なことである.英知を集め, 産業を支えうる技術の創出を進めることが肝要である.
- 公益社団法人精密工学会の論文
- 1994-11-05
著者
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