環境制御に関する研究 : 2. 胡瓜の保温育苗
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概要
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この実験は電熱温床内で経木鉢を利用したA処理と電床に直接下種したB処理の二方法を用いて育苗し, 第1回移植以後は冷床でビニール被覆による保温のみで育苗を試みた。その結果は次の通りである。1.冷床に移植した時, A処理の胡瓜苗は生育が遅滞することなく, 順調に生育し, 45日で定植することができた, 一方B処理の胡瓜苗は生育が著しく悪い結果となってしまった。2.雌花の着生率は標準として示されるものより低く, A処理で平均63%を示し, B処理で41%と極めて低い結果を示した。3.収量はA処理が早期, 全期共すぐれてよかった。一方B処理はすべてA処理に比べて劣っていた。
- 神戸大学の論文
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