スパッタ法で作った鉄薄膜
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概要
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Iron films deposited on glass substrates at normal incidence by sputtering were investigated. The substrate temperature ranged from room temperature to 300℃ and the argon gas pressures during deposition were 8, 10 and 20Pa. The incident power was varied from 40 to 200W. Results obtained are as follows. (1)With increasing the substrate temperature, the sticking coefficient of iron deposit decreases. This dependence differs from that of evaporated films. (2)The packing density is high in the films prepared at not only high but also low substrate temperatures. (3)With increasing argon gas pressure, gaps between crystallites become large. (4)The films consists of columnar grains and exhibits a crystallographic preferred orientation.
- 熊本大学の論文
- 1988-01-31
著者
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