伊藤 喜久男 | 熊本大理
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概要
関連著者
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伊藤 喜久男
熊本大理
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岡本 邦人
千葉大教育
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伊藤 喜久男
熊大院自然
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藤原 浩
広島女学院大
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紙谷 正夫
熊本大理
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伊藤 喜久男
熊本大教養
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紺谷 正夫
熊本大・教養
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紙谷 正夫
熊本大教養
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橋本 隆
鳥取大教育
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市川 聡夫
熊本大理
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橋本 隆
鳥取大・教育
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伊藤 喜久男
熊本大学教養部
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藤原 浩
広島大理
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原 一博
熊本大学教養部
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野口 淑恵
熊大院自然
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原 一博
熊本大理
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Noguchi Yoshiko
Department Of Physics Kumamoto University
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紙谷 正夫
熊本大学教養部
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Noguchi Yoshie
Department Of Physics Kumamoto University
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原 一博
熊本大教養
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石井 令子
熊大院自然
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須藤 正博
熊大院自然
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岡本 邦人
千葉大教養
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野口 淑恵
熊本大院自然
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高橋 正典
熊本大理
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堤 啓
熊本大理
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田中 一夫
熊本大学教養部
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狩集 邦彦
熊大院自然
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仲曽根 歩
熊大院自然
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狩集 邦彦
熊本大院自然
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仲曽根 歩
熊本大院自然
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高橋 正典
大阪市大工
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岡本 邦人
千葉大学教育学部
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橋本 隆
熊本大教養
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石田 祐史
熊本大理
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長尾 徳之
熊本大理
著作論文
- 27pPSA-2 Co薄膜に於ける不純物効果I(27pPSA 領域3ポスターセッション 薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,微小領域磁性,遍歴磁性,化合物磁性,f電子系磁性磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 21pPSA-15 Al/Fe多層膜の幾何学的構造(領域3ポスターセッション,薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,微小領域磁性,遍歴磁性,化合物磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 24pPSA-5 Al/Fe多層膜の磁気解析(薄膜・人工格子,微小領域,遍歴磁性酸化物,f電子系,実験技術開発等,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 12aPS-5 Al-Fe 膜の幾何学的構造(磁性・磁気共鳴, 領域 3)
- 27aPS-49 Fe-Al膜の幾何学的構造(領域3ポスターセッション : 希土類合金,化合物磁性,薄膜・人工格子,スピングラス,フラストレーション,量子スピン系,実験技術開発等)(領域3)
- 21pPSA-18 Co-Al 薄膜の磁気異方性
- 28pPSA-8 2 源蒸着による柱状粒成長の制御(その 6)
- 2p-PSB-45 斜め入射Co薄膜の磁気異方性
- 斜め入射スパッタCo膜の履歴曲線
- 14a-PS-7 スパッタCo薄膜の結晶配向
- 31p-PSB-39 スパッタCo薄膜の結晶磁気異方性の評価
- 3a-L-18 スパッタ法で作った僻め入射Fe薄膜の磁気臭方性
- たわみ法による Young 率の測定
- 回折格子の回折像
- 教養部における薄膜の研究
- 斜め蒸着Fe薄膜の depth profile
- 斜め蒸着した鉄薄膜での柱状結晶粒の束形成
- 30a-PS-30 スパッタCo薄膜の柱状粒構造
- 6a-PS-136 Co薄膜の繊維組織と柱状粒構造
- 28a-PS-11 Co薄膜の膜形成初期における柱状粒成長
- 斜め入射Co薄膜の柱状粒成長
- 斜め入射Co薄膜の柱状粒成長
- 29a-PS-62 磁気異方性からみた斜め入射Co薄膜の柱状粒成長
- 28a-PS-55 斜め入射Co薄膜の結晶粒の幾何学的配列
- 13p-R-8 斜め蒸着Co膜の磁気異方性:ガス導入蒸着
- 31p-PSB-40 斜め入射スパッタCo膜の磁気異方性
- 26a-PS-36 斜め蒸着薄膜の磁気異方性と光学異方性の depth profile
- 30a-PS-26 斜め入射スパッタNi膜の磁気異方性
- 30a-APS-23 斜め入射Co膜の磁気異方性
- 24p-W-7 斜め入射スパッタNi膜の磁気異方性と柱状粒構造
- 3a-H-6 斜め入射スパッタCo膜とNi膜の磁気異方性
- 31a-H-2 斜め入射で作った蒸着・スパッタFe膜の柱状粒構造
- 24pPSA-41 低温下地Co膜の柱状粒構造
- 24pPSA-40 斜め蒸着膜の柱状粒成長
- 26pPSA-59 結晶配向による結晶磁気異方性の評価
- 26pPSA-58 Co薄膜の磁気異方性 : ガス導入効果
- 28a-PS-93 Co薄膜の柱状粒構造 : ガス導入効果
- 28a-PS-92 柱状粒成長に及ぼす添加元素の影響
- 25a-PS-45 Co薄膜の柱状粒構造 : 導入ガス効果
- 25a-PS-67 スパッタCo膜の結晶配向
- 27aPS-9 低温下地Co膜の柱状粒成長 : 残留ガス効果
- 17pPSA-20 2源蒸着による柱状粒成長の制御(その3)
- 27aPS-19 2源蒸着による柱状粒成長の制御 (その2)
- 24pPSB-18 2源蒸着による柱状粒成長の制御
- 24pPSB8-6 低温下地蒸着膜の磁気異方性
- 3p-G-8 斜め入射スパッタFe膜の柱状粒構造
- スパッタ法で作った鉄薄膜
- ヘキサアンミンコバルト(III)アイオダイド中のCr(III)の常磁性共鳴
- 荷電した側鎖をもつ不斉なビニル高分子の非摂動長
- 8pPSA-16 Fe-Al膜の磁気解析(薄膜・人工格子磁性,微小領域磁性,表面・界面磁性講演,領域3)
- 25pPSA-8 2源蒸着による柱状粒成長の制御(その4)(25pPSA 薄膜・人工格子磁性,微小領域磁性,表面・界面磁性,スピングラス・ランダム系,アモルファス系,領域3(磁性,磁気共鳴分野))
- 8pPSA-13 2源蒸着による柱状粒成長の制御(その5)(薄膜・人工格子磁性,微小領域磁性,表面・界面磁性講演,領域3)