マルチジェットホロカソードプラズマソースを用いたプラズマ励起CVD法でのTiOx膜の堆積

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概要

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• 静岡大学の論文

著者

• 加藤 慎一

  静岡大学電子工学研究所

• 中村 正俊

  静岡大学電子科学研究科

• KORZEC Dariusz

  ヴッパータール大学微細加工センター

• 加藤 慎一[他]

  静岡大学電子工学研究所

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