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中村 正俊 | 静岡大学電子科学研究科
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関連著者
加藤 慎一
静岡大学電子工学研究所
中村 正俊
静岡大学電子科学研究科
KORZEC Dariusz
ヴッパータール大学微細加工センター
加藤 慎一[他]
静岡大学電子工学研究所
著作論文
マルチジェットホロカソードプラズマソースを用いたプラズマ励起CVD法でのTiOx膜の堆積
マルチジェットホロカソードプラズマソースを用いたプラズマ励起CVD法でのTiOx膜の堆積
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