無衝突プラズマにおけるプラズマ密度の決定法
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
無衝突プラズマにおけるプラズマ密度をプローブ特性の正イオン飽和領域から求めるLamの統一解方式理論はξ_e(プローブ半径/Debye半径)→∽の場合に妥当な結果を与える.この報告はLamの理論の適用限界を拡大させたものである.すなわち電離層プラズマのごときξ_e,の値がそれ程大きくない低密度プラズマにおいて適用し得るようなプローブ理論を展開した.その理論に基づき,プローブの電流-電圧特性から直ちにプラズマ密度が決定されるような図表を提出した.さらに実験的な検討を行ない,この理論が妥当であることがわかった.
- 宇宙航空研究開発機構の論文
著者
関連論文
- 30p-W-32 He,Ar再結合プラズマの反転分布II
- S-310-5号機による冬の電離層の熱的電子のエネルギー分布観測
- S-310-3号機による夜間電離層の熱的電子のエネルギー分布観測
- プローブによるスペースプラズマ中の電子のエネルギー分布測定における諸問題
- 無衝突プラズマにおけるプラズマ密度の決定法
- RFプローブによるプラズマの空間電位測定法
- 探極測定法 (I)
- レゾナンスプローブの補正法