NILモールド : sub-20nm を目指して

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 2012-09-01

著者

• 法元 盛久

  大日本印刷 半導体製品研

• 法元 盛久

  大日本印刷(株)研究開発センター

関連論文

• パターンドメディア用シリコンおよび石英モールド製造技術の開発状況
• LSIマスク製造における荷電ビーム装置応用の現状と展望(荷電ビームを応用する加工と計測)
• NILモールド : sub-20nm を目指して
• レジスト倒壊パターンを用いたナノ人工物メトリクス
• レジスト倒壊パターンを用いたナノ人工物メトリクス
• レジスト倒壊パターンを用いたナノ人工物メトリクス

スポンサーリンク