CVD-Ruライナーを用いたCu配線技術
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概要
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- 2009-07-09
著者
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波多野 達夫
東京エレクトロンat(株) Sd開発技術部門 バックエンドメタルプロジェクト
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五味 淳
東京エレクトロンat(株) Sd開発技術部門 バックエンドメタルプロジェクト
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安室 千晃
東京エレクトロンAT(株) SD開発技術部門 バックエンドメタルプロジェクト
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石坂 忠大
東京エレクトロンAT(株) SD開発技術部門 バックエンドメタルプロジェクト
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水澤 寧
東京エレクトロンAT(株) SD開発技術部門 バックエンドメタルプロジェクト
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小田島 保志
東京エレクトロン(株) 枚葉成膜部 interconnect グループ