モノリシック型シリコンマイクロチャネルプレートの開発
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
The Si-MCP with a high aspect ratio produced by the wet or dry etching technique of Si for micro channel formation and the CVD method for secondary electron multiplying film growth have been developed. The micro channel formed on the (110) Si substrate by anisotropic wet etching is a slit structure. On the other hand, the micro channe1 formed by using Deep-RIE is not only a pipe structure but also inclines. The CVD lead glass and the poly-Si film have been introduced as a secondary electron multiplying film. The gain of 54 was obtained at a dynode voltage of 600 V by the slit type Si-MCP with CVD lead glass, which had the maximum secondary electron emission coefficient of 1.9 at 190 eV.
- 2009-12-01
著者
関連論文
- MEMSジャイロセンサの極性反転によるドリフト抑制の検討
- モノリシック型シリコンマイクロチャネルプレートの開発
- 18.カテーテルを用いて導出した血圧波形は正確か?(第81回 日本医科器械学会大会 一般演題講演集)
- 32.カテーテルを用いた圧導出系の入力原波形の推定(東海支部大会抄録)
- 31.大動脈・橈骨動脈間における血管の弾性率変化とスティフネスパラメータとの関連性(東海支部大会抄録)
- スリーブ型極細光ファイバー式圧力センサ
- DRIEによる極細スリーブ型光ファイバー圧力センサ形成
- 53.カテーテル等の圧導出系に用いる制動素子の開発(第82回 日本医科器械学会大会 一般演題講演集)
- 52.末梢および血管分岐部で生じる反射波が血圧波形に与える影響(第82回 日本医科器械学会大会 一般演題講演集)
- 直接動脈圧測定時に制動素子が圧導出系に与える影響
- 30.ピーキング現象・圧較差現象の成因の検討 : 血管モデルを用いた実験的検討と電気回路シミュレーションによる解析(東海支部大会抄録)
- ドライプロセスによるSiマイクロチャネルプレートの開発
- スピンコートシーディング法を用いた多結晶ダイヤモンド圧力センサ