Canon のArF液浸リソグラフィの開発状況

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 2004-11-12

著者

• 羽田 英夫

  東京応化工業株式会社

• 羽田 英夫

  キヤノン株式会社

• 中野 一志

  キヤノン

• 中野 一志

  キヤノン株式会社

• 宇田 幸二

  キヤノン株式会社

• 本多 徳行

  キヤノン株式会社

• 高橋 和弘

  キヤノン株式会社

関連論文

• 低分子EUVレジストの開発
• Canon のArF液浸リソグラフィの開発状況
• F2露光装置開発の現状
• 193nmスキャン露光装置〔含 英文〕 (新しい地球環境と豊かなネットワーク社会を生み出す半導体技術) -- (セッション6 リソグラフィ--微細加工技術の限りなき挑戦)
• 量産対応キヤノンSRステッパー(XRA-1000)
• ArF液浸露光装置の開発状況
• 液浸リソグラフィ装置の要素技術の検討 (特集 次世代半導体製造のための新プロセス技術・新材料) -- ( 液浸リソグラフィ技術を展望する)

スポンサーリンク