プラズマ溶射法によるBi系超伝導厚膜の作製と評価(2)
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概要
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- 1995-11-03
著者
-
能登 宏七
岩手大学工学部
-
藤代 博之
岩手大学工学部
-
佐藤 弘樹
岩手大 工
-
桑嶋 孝幸
岩手県工業技術センター材料技術部
-
小笠原 洋光
岩手大・工
-
桑嶋 孝幸
岩手県工業技術センター
-
吉澤 秀二
同和鉱業(株)中央研究所
-
高橋 幾久雄
岩手県工業技術センター
-
高橋 幾久雄
岩手県工業技術センター企画情報部
-
吉澤 秀二
同和鉱業(株)中研
-
佐藤 弘樹
岩手大学工学部
-
佐々木 政博
岩手大学工学部
-
小笠原 洋光
岩手大学工学部
-
松川 倫明
岩手大学工学部
-
吉澤 秀二
同和鉱業(株) 中央研究所
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