In situ 軟X線吸収分光法を用いた極紫外線用多層膜ミラーのコンタミネーション防止機構の研究
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 日本放射光学会の論文
- 2008-01-31
著者
-
青木 貴史
研究組合 極端紫外線露光システム技術開発機構(euva)
-
寺島 茂
研究組合 極端紫外線露光システム技術開発機構(euva)
-
角谷 幸信
兵庫県立大学高度産業科学技術研究所
-
新部 正人
兵庫県立大学高度産業科学技術研究所
-
古井田 啓吾
兵庫県立大学高度産業科学技術研究所
-
松成 秀一
研究組合 極端紫外線露光システム技術開発機構(EUVA)
-
高瀬 博光
研究組合 極端紫外線露光システム技術開発機構(EUVA)
関連論文
- ニュースバルの到達点
- 電子線形加速器(LEENA)による自由電子レーザーの研究
- 極端紫外線露光技術
- EUVリソグラフィ技術の現状
- In situ 軟X線吸収分光法を用いた極紫外線用多層膜ミラーのコンタミネーション防止機構の研究
- EUV多層膜用キャッピングレイヤの開発
- スパッタリング法によって作製したTi/C多層膜の構造と機械的性質
- 軟X線干渉法によるEUV投影光学系の波面計測
- AFM観察によるジルコニアーイットリアセラミックスの等温マルテンサイト変態に対するアルミナ添加の影響