高Ic化を目指したNiW配向基板上の気相法による中間層成膜
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概要
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- 2006-11-15
著者
-
塩原 融
超電導工学研究所
-
三村 正直
古河電工
-
和泉 輝郎
超電導工学研究所
-
吉積 正晃
超電導工学研究所
-
須藤 泰範
超電導工学研究所
-
吉積 正晃
(財)国際超電導産業技術研究センター超電導工学研究所 線材研究開発部
-
須藤 泰範
(財)国際超電導産業技術研究センター超電導工学研究所 線材研究開発部
-
三村 正直
古河電気工業株式会社
-
中井 昭暢
超電導工学研究所
-
鬼頭 豊
超電導工学研究所
-
松田 潤子
超電導工学研究所
-
鬼頭 豊
東京電力
-
柴田 潤子
Srl
-
塩原 融
超電導工学研
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