MOCVD法による酸化物超伝導体薄膜作製に用いる低融点希土類錯体
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概要
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- 1999-09-07
著者
-
吉澤 秀二
明星大学先端材料研究開発センター
-
小山 敬子
明星大 大学院
-
吉沢 秀二
明星大 理工
-
田崎 雄三
(株)豊島製作所
-
小山 敬子
明星大学先端材料研究開発センター
-
藤野 泰子
明星大学先端材料研究開発センター
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