365nm用イミダゾール系光ラジカル発生剤の研究
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2006-06-30
著者
関連論文
- フォトレジストにおける増感剤としてのカルバゾール
- 情報記録・表示用高分子材料 : IT時代における大容量データの記録と画像データの表示
- 解説記事 超微細光加工の現状と次世代への研究動向
- 次世代型リソグラフィ対応の新規光酸発生剤の研究
- エレクトロニクス分野におけるフォトポリマー(下)(「ベーシックサイエンスシリーズ」第 6 回)
- エレクトロニクス分野におけるフォトポリマー(上)(「ベーシックサイエンスシリーズ」第 5 回)
- ビニルエーテルウレタン誘導体からなる三成分系フォトレジスト光重合特性におけるビニルエーテル官能性の効果
- 極性及び非極性ポリマーマトリックス中における三官能ビニルエーテルウレタンモノマーの特性挙動
- 高密度光記録材料
- 365nm用イミダゾール系光ラジカル発生剤の研究
- ビスイミダゾールを用いた光ラジカル重合系における高機能連鎖移動剤の分子設計
- 日本化学会第85回春季年会(2005)アドバンスド・テクノロジー・プログラム(ATP)
- 短波長化する光リソグラフィーの光化学への課題
- 2nd Asian Photochemistry Conference at Taejon, Korea