高真空下における, 三次元イオン注入によるDLC膜の生成
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概要
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Using a modified loop antenna, RF plasmas are formed under high vacuum without collisions between neutral atoms and a test piece or a target (Si) is mounted in the plasma.By applying a negative high voltage to the target, carbon ions are implanted into the target by the three-dimensional ion implantation method. Films thus formed have been identified as DLC (diamond-like carbon) by Raman spectra, X-ray diffractometry and Rutherford back scattering. In the case of a target of WC with 10% Co, it has been found that the sticking force of film is 60N and the friction coefficient 0.13.
- 2005-12-01
著者
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小林 知洋
独立行政法人理化学研究所
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池上 祐司
理研
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鈴木 嘉昭
独立行政法人理化学研究所 先端技術基盤部門 ビームアプリケーションチーム
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徳地 明
ニチコン(株)
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丹波 護武
理研
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片山 武司
独立行政法人理化学研究所
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小林 知洋
独立行政法人理化学研究所 先端技術基盤部門 ビームアプリケーションチーム
-
丹波 護武
独立行政法人理化学研究所
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斎藤 貴広
冨士ダイス(株)
-
池上 祐司
独立行政法人理化学研究所
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