論文relation
溶液原料気化CVD法を用いた8インチ基板上への(Ba, Sr)TiO_3薄膜の作製
スポンサーリンク
概要
論文の詳細を見る
1996-12-05
著者
日高 淳一
日本酸素(株)つくば研究所電材開発部
小林 一三
日本酸素(株)
津山 新井
日本酸素(株)
沢渡 義規
日本酸素(株)
平尾 浩二郎
日本酸素(株)
日高 淳一
日本酸素(株)
関連論文
SC-7-8 窒化物系半導体用MOCVD装置
溶液原料気化CVD法を用いた8インチ基板上への(Ba, Sr)TiO_3薄膜の作製
スポンサーリンク
論文relation | CiNii API
論文
論文著者
博士論文
研究課題
研究者
図書
論文
著者
お問い合わせ
プライバシー