極微細パターン形成のための超臨界乾燥法

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 2005-02-01

著者

• 生津 英夫

  NTT物性科学基礎研究所

関連論文

• シリコン相補型単電子インバーター : V-PADOX法による作製とその特性評価
• 極微細パターン形成のための超臨界乾燥法
• シリコン相補型単電子インバーター : V-PADOX法による作製とその特性評価

スポンサーリンク