パルス大電流アークプラズマによる炭化ホウ素粉体の膜化
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概要
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The Electro-Magnetically Accelerated Plasma Spraying (EMAPS) was developed and applied to the deposition of boron carbide (B4C) powder, which was accelerated and heated by the pulsed high current arc plasma in a coaxial plasma gun and sprayed on the substrate. Dense deposit of crystalline B4C with Vickers hardness of 2600 kgf/mm2 was obtained on the mirror polished SUS304 substrates with high adhesion. It was supposed that the deposit was formed by the impact of B4C particles with the velocity of more than 2.5 km/s for the powder less than 10 µm in diameter and about 2 km/s for 30±10 µm.
- 社団法人 電気学会の論文
- 2003-09-01
著者
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薄葉 州
独立行政法人産業技術総合研究所
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北村 順也
産業技術総合研究所
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北村 順也
独立行政法人 産業技術総合研究所 第5事業所 新炭素系材料開発研究センター
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薄葉 州
独立行政法人 産業技術総合研究所 第5事業所 新炭素系材料開発研究センター
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