反応性溶射によるZr-O-B系セラミックス/Ni-20%Cr傾斜皮膜の合成
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概要
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- 2002-06-20
著者
-
原田 良夫
トーカロ
-
原田 良夫
トーカロ(株)溶射技術研究所
-
堀岡 一彦
東京工業大学総合理工学研究科創造エネルギー専攻
-
堀岡 一彦
東京工業大学
-
田村 英樹
防衛大
-
田村 英樹
防衛大学校 応用物理学科
-
水迫 文樹
東京工業大学大学院 総合理工学研究科 物質科学創造専攻
-
原田 良夫
トーカロ(株)
-
田村 英樹
防衛大学校
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