活性炭によるダイオキシンの吸着除去性能に関する研究
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概要
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固定床流通系により，活性炭の1,2,3,4-テトラク口口ジベンゾパラジオキシン（T4CDD）の吸着除去性能を調べた．活性炭のT4CDD吸着除去性能に対する，通ガス時間，T4CDD入口濃度，活性炭使用量，活性炭粒径，ガス温度およびガス空塔速度の影響を明らかにした．吸着除去性能に対するこれらの影響は，ガス境膜と細孔内の物質移動モデルにより説明できた．活性炭のT4CDDの吸着除去性能は，1,2,3-トリク口口ベンゼンや二酸化硫黄が気相に共存しても影響を受けることはなく，また塩化水素が気相に共存すると吸着除去性能は向上する．
- 社団法人 化学工学会の論文
- 2001-03-20
著者
-
古林 通孝
日立造船(株)技術本部技術研究所 製品・システムセンター環境システム研究室
-
古林 通孝
日立造船(株)
-
長井 健一
日立造船(株)
-
長井 健一
日立造船(株)環境事業本部 建設統括本部
-
篠原 力男
日立造船(株)技術研究所 環境・プラント技術研究センター
-
古林 通孝
日立造船 技研
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